Las tecnologías superficiales fabrican una amplia gama de los óxidos del aluminio, del cerio y de circonio. Estos productos se utilizan para emerger los substratos de cerámica, de cristal, del metal y del plástico del final. Los productos del CMP encuentran el uso en planarizing varios niveles de virutas del semiconductor en los niveles del STI (aislamiento bajo del foso) y de ILD (dieléctrico interno ...
La CERÁMICA TÉCNICA de OZARK desarrolló la producción de aisladores des alta temperatura del óxido del hafnio para mantener nuevos adelantos en la termometría da alta temperatura. Los aisladores del óxido del hafnio son también útiles como alternativa no tóxica a los óxidos del berilio en usos existentes. Los aisladores del óxido del hafnio de OZARK se utilizan rutinario para los usos a 2200 C.
El ...
Zirconia (ZrO2)
Bulk Density: 6.0 g/cm3
Thermal Conductivity: 2.5 W/m.K Hardness: 87 HRA
