Máquina de para deposición CVD de capas delgadas
AcXys Technologies
Las tecnologías de AcXys proporcionan un equipo de la capa de la película fina (UL-Capa) que permiten el depósito fino de Silicium.
Puede ser utilizada para agregar nuevos propieties a la capa de las superficies (capa de barrera, hydrophoby, óptico,...)
Este dispositivo ofrece un inyector y una unidad de calefacción. La deposición de la capa es factible en muchos materiales. Los pequeños puntos o áreas más amplias se pueden procesar también.
Puede ser utilizada para agregar nuevos propieties a la capa de las superficies (capa de barrera, hydrophoby, óptico,...)
Este dispositivo ofrece un inyector y una unidad de calefacción. La deposición de la capa es factible en muchos materiales. Los pequeños puntos o áreas más amplias se pueden procesar también.
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