Filtro de partículas Wafergard® III NF

de membranaen líneade alta temperatura

Filtros en línea micro del gas de Wafergard® III N-F Filtración de partículas superior para la filtración del sistema de gas del ultrapure El más limpio, la mayoría de los filtros todos de metal eficientes disponibles La membrana patentada del filtro del níquel ofrece resistencia a la corrosión superior y compatibilidad excelente con los gases inertes y reactivos. (No recomendado para el uso con el CO, O3 y los gases bajos del dopante del hidruro.) Ideal para los usos de la temperatura alta y de la dinámico-presión Materiales: Elemento filtrante: Filtro de membrana patentado, sinterizado del níquel. Cubierta: Entramado de acero inoxidable de Electropolished F20 Interior superficial del final: Ra del μin <=5 Grado del escape del helio: 2 `calificado 10-10 atmósfera-cc/sec. Probado 1 `10-9 atmósfera-cc/sec. Limpieza rio abajo: Particles1: Menos de 0.03 partículas/litro (μm =0.003 Retención de la partícula: Mayor de 99.9999999% retiro (9 LRV) de todas las partículas (a lo más tamaño de partícula penetrante referido) Condiciones de funcionamiento: Presión de entrada máxima: barra 207 (3000 PSI) @100°C Presión diferenciada delantera/del revés máxima: barra 35 (500 PSID) Temperatura de funcionamiento máximo: Gases inertes 400°C en los gases corrosivos y reactivos 50°C de la barra 35 (500 PSI) en la barra 70 (1000 PSI)