Espectrómetro de fluorescencia de rayos X por energía dispersiva (EDXRF)
X-RAY XDV-SDD
FISCHER
El FISCHERSCOPE®-X-RAY XDV®-SDD es un espectrómetro dispersivo de la radiografía de la energía universal aplicable. Está particularmente bien adaptado para el análisis no destructivo de capas muy finas, porque las concentraciones pequeñas remontan análisis y para las medidas automatizadas.
Las áreas típicas del uso son:
- Análisis de las capas finas o muy finas, capas e.g., del oro/del paladio del ?m ?0.1
- Análisis del rastro en tableros de PC según los requisitos de RoHS y de WEEE
- Análisis del oro y de los metales preciosos
- Medida de capas funcionales en electrónica y las industrias del semiconductor
- Determinación de sistemas de multi-capa complejos
- Medidas automatizadas, e.g., en control de calidad
Para crear las condiciones ideales de la excitación para cada medida, el XDV-SDD ofrece eléctricamente aberturas cambiables y los filtros primarios. El detector moderno de la deriva del silicio alcanza alta exactitud del análisis y buena sensibilidad de la detección. Debido a aberturas grandes (colimadores) y a un procesador muy rápido del pulso, se satisface idealmente para capturar tarifas del alto registro.
El espectrómetro de la radiografía de XDV-SDD tiene una estabilidad a largo plazo excelente, que se refleja en un esfuerzo perceptiblemente reducido de la calibración, entre otras cosas. Usando el método fundamental del parámetro, los sistemas de capa así como muestras sólidas y líquidas pueden ser estándar-libres analizado. Es posible detectar hasta 24 elementos en una gama del aluminio (13) al uranio (92) simultáneamente.
Con su rápido, X/Y-stage programable, es el instrumento que mide apropiado para las medidas automatizadas de la muestra.
Las áreas típicas del uso son:
- Análisis de las capas finas o muy finas, capas e.g., del oro/del paladio del ?m ?0.1
- Análisis del rastro en tableros de PC según los requisitos de RoHS y de WEEE
- Análisis del oro y de los metales preciosos
- Medida de capas funcionales en electrónica y las industrias del semiconductor
- Determinación de sistemas de multi-capa complejos
- Medidas automatizadas, e.g., en control de calidad
Para crear las condiciones ideales de la excitación para cada medida, el XDV-SDD ofrece eléctricamente aberturas cambiables y los filtros primarios. El detector moderno de la deriva del silicio alcanza alta exactitud del análisis y buena sensibilidad de la detección. Debido a aberturas grandes (colimadores) y a un procesador muy rápido del pulso, se satisface idealmente para capturar tarifas del alto registro.
El espectrómetro de la radiografía de XDV-SDD tiene una estabilidad a largo plazo excelente, que se refleja en un esfuerzo perceptiblemente reducido de la calibración, entre otras cosas. Usando el método fundamental del parámetro, los sistemas de capa así como muestras sólidas y líquidas pueden ser estándar-libres analizado. Es posible detectar hasta 24 elementos en una gama del aluminio (13) al uranio (92) simultáneamente.
Con su rápido, X/Y-stage programable, es el instrumento que mide apropiado para las medidas automatizadas de la muestra.
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