Evaporador de gas IR-300

evapoconcentración

El proceso de deposición química orgánica de vapor metálico (MOCVD) se utiliza ampliamente en la fabricación de LED, dispositivos ópticos y otros componentes. Los precursores líquidos y sólidos se suministran a la cámara de reacción controlando la temperatura, la presión y el caudal de gas portador (método de burbujeo). La serie IR-300 en línea mide e informa de la concentración de precursores en tiempo real, proporcionando al usuario las siguientes ventajas: Optimizar el control del proceso para producir más dispositivos de alta calidad Mejorar el rendimiento de los dispositivos y reducir los desechos Mejorar la reproducibilidad Saber cuándo es necesario cambiar un borboteador Ampliar la MTTA Reducir las intervenciones no planificadas Reducir los valiosos residuos de precursores Monitorización en tiempo real La rápida respuesta y la excelente repetibilidad permiten el seguimiento en tiempo real de los cambios en la concentración de vapor Función de curva de calibración múltiple (opcional) Permite medir la concentración de hasta 3 sustancias químicas o rangos Función de visualización múltiple La función de visualización múltiple en la parte superior de la unidad IR-300 permite al usuario comprobar in situ la monitorización de la concentración y el estado de la línea de suministro de precursores Función de comunicaciones Conectividad a través de DeviceNet™, RS485 y comunicaciones analógicas Diseño sencillo y compacto Con un tamaño cara a cara de 124 mm, el diseño compacto y sin orientación de montaje de la unidad permite una fácil integración