Platina de posicionamiento compatible de vacío KDT310 series

XYmotorizada2 ejes

- Vakuum: todas las gamas HV / UHV hasta 10E-8 mbar - Líquido de lubricación hasta 10E-8 - Temperatura máxima de horneado 100°C - Apertura en X con 90 x 90 mm, Y 150 x 150 mm El sistema de posicionamiento con apertura se combinó a partir de dos etapas lineales para diseñar una etapa XY precisa y resistente para aplicaciones en alto vacío y ultra alto vacío. Su concepto con guías de carril de perfil y husillos de bolas de alta precisión permite una precisión extraordinaria con un uso óptimo del espacio de instalación. Puede combinarse fácilmente con la platina giratoria DT155, lo que da lugar a una amplia gama de aplicaciones. Campos de aplicación Posicionamiento de precisión para aplicaciones de laboratorio, microscopía y tecnología de semiconductores, investigación en ultravacío y bajo radiación ultravioleta extrema, preparación de muestras, escaneo de muestras, manipulación de muestras, biochips, inspección de obleas, alineación de obleas, ajuste de cámaras, investigación de materiales, análisis de materiales, línea de haz, acelerador, sincrotrón