Máquina de deposición CVD ULCoat

máquina de deposición CVD
máquina de deposición CVD
máquina de deposición CVD
máquina de deposición CVD
máquina de deposición CVD
máquina de deposición CVD
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador
 

Características

Método
CVD

Descripción

Con la inyección de un precursor en el plasma posterior a la descarga, el ULCoat permite la deposición de finas capas sobre la superficie tratada. El ULCoat es un sistema de vaporización e inyección de un precursor debajo de la boquilla de plasma. El ULCoat se utiliza junto con un generador OMEGA ULS. El módulo estándar está diseñado para la deposición de óxidos de silicio (SiOx) utilizando un precursor organometálico. Pero se pueden explorar otras composiciones químicas. El laboratorio de desarrollo de procesos de AcXys Technologies está a su servicio para desarrollar la aplicación que satisfaga sus necesidades bajo un contrato de I + D.

Catálogos

No hay ningún catálogo disponible para este producto.

Ver todos los catálogos de AcXys Technologies
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.