Anillo de estanquidad de precisión

a medidade FKM

Descripción del producto
Juntas tóricas en FKM (fluoroelastómero) y FFKM (perfluoroelastómero) diseñadas para procesos de semiconductores, incluidas la grabado por plasma, CVD/ALD, manipulación de obleas y sistemas de vacío. Están pensadas para ofrecer resistencia química, rendimiento a altas temperaturas y ultra-baja emisión de gases para cumplir requisitos de sala limpia y alto vacío.

Juntas tóricas FKM (fluoroelastómero):

• Resistencia a la temperatura: -20°C a +200°C (corto plazo hasta 250°C)
• Resistencia química: ácidos, disolventes, aceites, ozono
• Dureza (Shore A): 70–90
• Resistencia a set de compresión: excelente para sellos estáticos
• Emisión de gases: baja
• Aplicaciones típicas: grabado húmedo, manipulación de obleas, sellos sub-fab

Juntas tóricas FFKM (perfluoroelastómero):

• Resistencia a la temperatura: -10°C a +300°C (grades seleccionados hasta 327°C)
• Compatibilidad química: resistentes a ácidos fuertes, aminas, disolventes y gases plasmáticos comunes (CF4, NF3, Cl2, HF, O3)
• Dureza (Shore A): 70–90
• Emisión de gases: ultra-baja, adecuada para alto vacío
• Resistencia al plasma: excepcional
• Aplicaciones típicas: grabado por plasma, CVD, ALD, implantación iónica, cámaras de vacío

Fabricación y capacidad

• Moldeo sin rebabas ni flashes
• Fabricación en entornos de producción limpios certificados ISO
• Embalaje compatible con sala limpia
• Capacidad de producción a gran escala para pedidos al por mayor y suministro JIT
• Formulación personalizada y prototipado para requisitos específicos de la herramienta

Aplicaciones en la fabricación de semiconductores

• Sistemas de grabado por plasma y ashing
• Deposición química en fase vapor (CVD)
• Deposición de capas atómicas (ALD)
• Herramientas de grabado en seco y húmedo
• Cámaras y esclusas de carga bajo vacío
• Equipos de transferencia y manipulación de obleas
• Equipos sub-fab y sellos
• Equipos CMP y de litografía

Disponibilidad

• Tamaños estándar: Juntas AS568, JIS y métricas disponibles en stock
• Tamaños personalizados: Disponibles bajo pedido con plazos cortos
• Pedidos al por mayor: Soportados con producción escalable y envío global

Por qué elegirnos

• Experiencia comprobada en soluciones de elastómeros de alta pureza para herramientas de semiconductores
• Control de calidad estricto con producción certificada ISO
• Soporte logístico global para entrega justo a tiempo
• Asistencia técnica para selección de materiales y diseño de aplicaciones
• Precios competitivos y servicio técnico receptivo
• Herramientas, moldes y servicios de diseño internos

Especificaciones técnicas

• Materiales: FKM (fluoroelastómero) y FFKM (perfluoroelastómero)
• Rangos de temperatura: FKM -20°C a +200°C (corto plazo hasta 250°C); FFKM -10°C a +300°C (hasta 327°C en grados seleccionados)
• Resistencia química: FKM — ácidos, disolventes, aceites, ozono; FFKM — ácidos fuertes, aminas, disolventes y gases plasmáticos comunes (CF4, NF3, Cl2, HF, O3)
• Dureza (Shore A): típ. 70–90
• Emisión de gases: FKM baja; FFKM ultra-baja, adecuada para alto vacío
• Resistencia al plasma: FFKM excepcional
• Generación de partículas: baja, compatible con procesos semiconductores ultra-limpios
• Fabricación: moldeo sin flash ni rebabas en entornos de producción certificados ISO
• Embalaje: compatible con sala limpia
• Tamaños: AS568, JIS, métricos; tamaños personalizados disponibles; soporte para pedidos al por mayor