Rueda abrasiva
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador
Descripción
El pulido químico-mecánico (CMP) ayuda a suavizar las superficies de las obleas, una parte importante de la producción de VLSI (Very Large-Scale Integration). El acondicionamiento es esencial para asegurar una molienda estable de CMP. Asahi Diamond ofrece una variedad de acondicionadores CMP para adaptarse a diversas formas y especificaciones de obleas.
---
Catálogos
No hay ningún catálogo disponible para este producto.
Ver todos los catálogos de ASAHI Diamond
Búsquedas asociadas
- Boquilla de atomización para líquido
- Boquilla inoxidable
- Boquilla para trabajos de limpieza
- Disco abrasivo
- Muela de tratamiento de superficie
- Muela cilíndrica
- Boquilla de atomización para agua
- Muela de rectificado
- Muela de diamante
- Muela de corte
- Boquilla de atomización de pintura
- Muela de botón
- Muela CBN
- Boquilla para aplicaciones de precisión
- Pasta para pulido
- Disco abrasivo de limpieza
- Muela periférica
- Muela de acabado
- Muela de metal
- Rueda abrasiva
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.