Platina de posicionamiento XY rotativa2 ejescon base giratoria
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Características
- Orientación
- XY, rotativa
- Número de ejes
- 2 ejes
- Otras características
- de alta precisión, micrométrica, con base giratoria
Descripción
Descripción
Base micrométrica de posicionamiento para clichés de acero y fotopolímero que permite el ajuste micrométrico en los ejes X e Y y la rotación hasta 5°, garantizando un registro preciso en impresiones en varios colores. Existe una versión opcional de alta definición con ajustes más finos bajo petición.
Aplicaciones
Características / especificaciones técnicas
Base micrométrica de posicionamiento para clichés de acero y fotopolímero que permite el ajuste micrométrico en los ejes X e Y y la rotación hasta 5°, garantizando un registro preciso en impresiones en varios colores. Existe una versión opcional de alta definición con ajustes más finos bajo petición.
Aplicaciones
- Posicionamiento y alineación de clichés en prensa
- Ajuste fino XY para un registro preciso en impresiones multicolor
- Rotación hasta 5° para corregir desalineaciones angulares
- Adecuada para clichés de acero y fotopolímero
- Opción: versión de alta definición para impresiones de muy alta resolución
Características / especificaciones técnicas
- Compatibilidad: clichés de acero y fotopolímero
- Ajuste: ajuste micrométrico en ejes X e Y
- Rotación: regulable hasta 5°
- Uso principal: lograr una superposición perfecta en impresiones multicolor
- Opción: versión dedicada de alta definición disponible bajo petición
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