Máquina de deposición CVD C30Sde película finade poliparaxilileno
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Características
- Método
- CVD
- Tipo de deposición
- de película fina, de poliparaxilileno
Descripción
Ideal para pruebas de laboratorio y producción industrial de piezas pequeñas
Equipo versátil con posibilidad de actualización a configuración multicapa
Perfectamente adecuado para:
Componentes pequeños y medianos (por ejemplo, en electrónica, aplicaciones médicas, etc.)
Obleas de hasta ø 200 mm (8 pulgadas)
Dimensiones totales (largo x ancho x alto) - 2100 x 1370 x 2000mm
Peso - 350kg
Tamaño de la cámara - ∅ 295 x 370 mm
Tamaño del utillaje - ∅ 260 x 320 mm
Carga máxima del utillaje - 100kg
Capacidad de carga del dimer - 150g
Capacidad de bombeo - 40 m3/h
Fuente de alimentación requerida - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz
3 x 25A - 15kW
Procesamiento de parileno - Tipo: C, D, N, F-VT4, F-AF4
Cámara termalizada - Rango de temperatura - 20 - 30°C
Opciones - Compatible con todas las opciones
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