Máquina de deposición ALD C30H ALD

de poliparaxilileno

Ideal para pruebas de laboratorio y producción industrial de piezas pequeñas Perfectamente adecuado para componentes de forma compleja en 3D Deposición ALD de Al2O3 y TiO2 Fuente de plasma remota Panel de gas con 4 líneas de precursores calentados por defecto, más a petición Dimensiones totales (L x W x H) - 2250 x 1160 x 1450mm Peso - 350 kg Tamaño de la cámara - ∅ 295 x 370 mm Tamaño del utillaje - ∅ 260 x 320 mm Carga máxima del utillaje - 100kg Capacidad de carga del dimer - 150g Capacidad de bombeo - 40 m3/h Fuente de alimentación requerida - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 x 25A - 15kW Cámara termalizada - Rango de temperatura: 20 - 80°C Alimentación eléctrica: 3 x 400V + PE - 50Hz 3x 14A - 9kW Plasma remoto Fuente - Frecuencia: 1,7 - 3MHz Potencia: 3000W RF in situ capacitiva Fuente de Plasma - - Estándar procesable materiales - Parileno: C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD: Al 2 O 3 , TiO Proceso temperatura - Parileno: temperatura ambiente ALD: 60 - 80°C