Componentes cerámicos para litografía e inspección de obleas
Perfectos para aplicaciones de litografía y manipulación de obleas de última generación, nuestros componentes cerámicos ultrapuros garantizan una contaminación mínima y ofrecen un rendimiento excepcionalmente duradero.
COMPONENTES PARA LITOGRAFÍA E INSPECCIÓN DE OBLEAS
Resistentes a los ataques químicos y térmicamente estables, nuestros componentes cerámicos de gran pureza son ideales para el procesamiento litográfico, la manipulación de obleas (baja contaminación) y la inspección de obleas (durabilidad y dureza extremas, dimensionalmente estables). Las aplicaciones incluyen:
Sustratos de fotomáscaras
Mandriles para obleas
Componentes de plataformas para obleas
Mesas para obleas
MATERIALES RECOMENDADOS PARA LITOGRAFÍA E INSPECCIÓN DE OBLEAS
Alúminas de alta pureza
UltraClean™ Carburo de silicio recristalizado
CeraSiC, UltraSiC™ carburos de silicio sinterizados directos
SUSTRATOS PARA FOTOMÁSCARAS
Los sustratos para fotomáscaras CoorsTek están fabricados con vidrio de cuarzo sintético de gran pureza para ofrecer una transmitancia de luz UV y visible superior, estabilidad térmica, aislamiento eléctrico, baja birrefringencia y estabilidad química duradera. La tecnología de pulido avanzada y escalable hace que estos sustratos de fotomáscara sean ideales para la creación de patrones microscópicos desde obleas hasta grandes pantallas planas (FPD).
OBLEAS CERÁMICAS
Nuestros mandriles para obleas de vacío cerámicos ultraplanos, mandriles paso a paso, mandriles porosos y mandriles electrostáticos mejoran la gestión del rendimiento para el procesamiento de obleas de semiconductores. Las configuraciones de bajo contacto con la superficie minimizan el riesgo de partículas en la parte posterior para aplicaciones sensibles. Nuestros mandriles para obleas ofrecen:
Capacidades ultraplanas
Pulido espejo
Peso excepcionalmente ligero
Alta rigidez
Baja expansión térmica
Φ Diámetro de 300 mm y superior
Resistencia extrema al desgaste
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