Resumen del productoUnión rotativa de paso único diseñada para aplicaciones en semiconductores, capaz de operar a temperaturas de hasta -292 °F (−180 °C). La unidad incorpora un conjunto especializado para uso en entornos de vacío donde debe evitarse la emisión de gases y las fugas hacia la atmósfera. Construcción compatible con salas limpias y manejo de medios químicos/gas.
Características clave- Diseño de paso único
- Opera hasta -292 °F (−180 °C)
- Ensamblaje especializado para vacío que minimiza emisiones y evita fugas a la atmósfera
- Construcción compatible con sala limpia
- Fabricado en acero inoxidable
Detalles técnicos- Industria: Semiconductores
- Tipo(s) de medio: Químico, Gas
- Entorno: Sala limpia / aplicación en vacío
- Material: Acero inoxidable
- Presión máxima: 100 PSI (7 bar)
- Velocidad máxima: 30 RPM
- Número de pasos: 1
- Tamaño del paso: 0.188" (4.8 mm)
- Agujero pasante: Ninguno
- Diámetro: 2.880" (73.2 mm)
- Longitud: 2.150" (54.6 mm)
Proyectos relacionados / Industria- Industria relacionada: Semiconductores
- Tipos de medios relacionados: Químico, Gas
Especificaciones / Especificaciones técnicas- Modelo / Referencia: WB-06111
- Configuración: Unión rotativa de paso único
- Capacidad de temperatura: hasta -292 °F (−180 °C)
- Clasificación de presión: hasta 100 PSI (7 bar)
- Velocidad: hasta 30 RPM
- Tamaño del paso: 0.188" (4.8 mm)
- Número de pasos: 1
- Agujero pasante: Ninguno
- Diámetro exterior: 2.880" (73.2 mm)
- Longitud total: 2.150" (54.6 mm)
- Material: Acero inoxidable
- Entorno previsto: Aplicaciones en sala limpia / vacío (baja emisión, contención de fugas)