Horno tratamiento térmico +60 °C ... +300 °C | PVC, PVHC series
de cámaraeléctrico

horno tratamiento térmico
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Características

Función
tratamiento térmico
Configuración
de cámara
Fuente de calor
eléctrico

Descripción

Utilizado extensivamente en la hornada, tratamiento térmico/el secarse de las obleas de semiconductor, cristales líquidos, discos y otros componentes y dispositivos requiriendo condiciones limpias del aire. Además de la instrumentación estándar que ofrece la programación de dos etapas, la M-instrumentación permite la operación programada en hasta 18 pasos. La limpieza de la clase 100 es alcanzada empleando un filtro de HEPA y un sistema laminar detrás-a-delantero de la circulación. El modelo de alto rendimiento (modelo de PVHC) proporciona funcionamiento estable incluso durante calentamiento o refrescarse en las temperaturas altas de 150°C (+302°F) o más. Compatible con la red del compartimiento, sistema de E-BUS.

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