Sistema de fotolitografía UV-NIL UV/EVG®620 NT

Conocida por su flexibilidad y fiabilidad, la EVG620 NT proporciona tecnología de alineación de máscaras de última generación en un espacio mínimo. El software de fácil manejo, el tiempo minimizado para los cambios de máscaras y herramientas, así como el eficiente soporte de servicio en todo el mundo, los convierten en la solución ideal para cualquier entorno de I+D hasta la producción en serie semiautomática. La herramienta soporta una variedad de procesos de litografía estándar, como el modo de exposición al vacío, blando, duro y de proximidad, con la opción de alinear la parte posterior. Además, el sistema ofrece capacidades adicionales para configuraciones multipropósito, incluyendo la alineación de adhesivos y la litografía de nanoimpresión. Además, la tecnología SmartNIL patentada de la EVG es compatible con configuraciones de sistema semiautomáticas y totalmente automatizadas. SmartNIL es la tecnología NIL líder en la industria, que permite la creación de patrones de características extremadamente pequeñas de hasta menos de 40 nm*, así como una amplia gama de tamaños y formas de estructuras. SmartNIL, en combinación con la tecnología de sellado suave multiuso, permite un rendimiento inigualable con considerables ventajas en cuanto a costes de propiedad, a la vez que preserva la escalabilidad y un funcionamiento de fácil mantenimiento. SmartNIL de EVG cumple la promesa a largo plazo de que la nanoimpresión es una tecnología de litografía alternativa de bajo coste y gran volumen para la fabricación en masa de estructuras de micro y nanoescala. *resolución dependiente del proceso y del modelo