Máquina de deposición PVD LTMC

CVDde vacío

Descripción general
El equipo LTMC emplea deposición química en fase vapor por plasma a baja temperatura (PCVD) para formar una capa de difusión metal-céramica en componentes metálicos. En vacío y por debajo de 150°C, el plasma activa gases de proceso con silicio, boro y nitrógeno que reaccionan y difunden en la superficie del substrato, creando una capa compuesta gradual que aumenta la dureza superficial y aporta fases de lubricación sólida.

Resumen de rendimiento clave

• Volumen de la cámara: 3,4 m³
• Área de tratamiento efectiva: 1.200 × 1.100 × 550 mm
• Peso máximo de carga: 3.000 kg
• Tiempo de proceso típico: 3–5 horas (depende de la pieza y parámetros)
• Temperatura de funcionamiento: por debajo de 150°C

Beneficios clave de la tecnología LTMC

• Endurecimiento superficial a baja temperatura: incrementa la dureza superficial limitando los efectos térmicos en el substrato, adecuado para piezas de pared fina y de precisión.
• Unión por difusión cerámica: Si, B y N forman fases cerámicas que se difunden ~10–20 μm, generando una capa compuesta gradual y fuertemente adherida resistente al desgaste.
• Propiedades autolubricantes: formación de fases como el nitruro de boro hexagonal proporciona lubricación sólida para reducir la fricción manteniendo la dureza.
• Tratamiento de superficies internas y externas: las formas de los electrodos son ajustables para tratar paredes internas y componentes de pared fina.

Aplicaciones y materiales compatibles

• Aplicaciones típicas: camisas de cilindros, anillos de pistón, herramientas de corte, moldes, árboles de levas, balancines, rodamientos, engranajes y componentes similares que requieren resistencia al desgaste y baja fricción.
• Materiales tratables: aceros, aleaciones de titanio, aleaciones de aluminio, carburo cementado (ejemplos probados: 20CrNiMo, TC17, YG6, cobre puro).

Detalles del proceso y funcionales
LTMC utiliza PCVD a baja temperatura: el plasma activa gases reactivos (con Si, B y N) que forman fases cerámicas que difunden en la región próxima a la superficie hasta 10–20 μm, creando una capa compuesta gradual con propiedades resistentes al desgaste y autolubricantes.

Parámetros del producto
Equipo: LTMC Low Temperature Metal Ceramic Coating Equipment
Tecnología de proceso: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
Volumen de la cámara: 3,4 m³
Área de tratamiento efectiva: 1.200 × 1.100 × 550 mm
Peso máximo de carga: 3.000 kg
Dimensiones del equipo (L × W × H): 8.770 × 5.100 × 2.320 mm
Elementos formadores de cerámica: silicio, boro, nitrógeno
Gases de proceso: N2 / SiH4 / B2H6
Profundidad de difusión cerámica: 10–20 μm
Modos de control de gas: control de presión de cámara o control de flujo de gas
Configuración de bombas de vacío: bomba de paletas + bomba Roots
Velocidad de bombeo: 1.200 m³/h
Tiempo de proceso típico: 3–5 horas
Temperatura de funcionamiento: por debajo de 150°C

Preguntas frecuentes seleccionadas

• ¿Para qué se utiliza el equipo LTMC? — Tratamiento de difusión metal-céramica a baja temperatura para mejorar la dureza superficial, la resistencia al desgaste y la capacidad autolubricante en piezas como camisas, rodamientos, engranajes, herramientas y moldes.
• ¿Cuál es la temperatura de tratamiento? — Por debajo de 150°C (temperatura máxima de trabajo 150°C).
• ¿Qué materiales pueden tratarse? — Acero, aleaciones de titanio, aleaciones de aluminio, carburo cementado (ej.: 20CrNiMo, TC17, YG6, cobre puro).
• ¿Se pueden tratar paredes internas y piezas de pared fina? — Sí. Las formas de los electrodos pueden ajustarse para tratamientos de paredes internas y piezas de pared fina (ej.: camisas de 1,5 mm).
• ¿Cuál es la capacidad máxima de carga? — 3.000 kg; área de tratamiento efectiva 1.200 × 1.100 × 550 mm; volumen de la cámara 3,4 m³.

Especificaciones técnicas

• Serie / nombre: LTMC
• Proceso: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
• Volumen de la cámara: 3,4 m³
• Área de tratamiento efectiva: 1.200 × 1.100 × 550 mm
• Peso máximo de carga: 3.000 kg
• Dimensiones del equipo: 8.770 × 5.100 × 2.320 mm
• Temperatura de funcionamiento: por debajo de 150°C
• Tiempo de ciclo típico: 3–5 horas (depende de la pieza y los ajustes)
• Elementos formadores de cerámica: silicio, boro, nitrógeno
• Gases de proceso (ejemplos): N2 / SiH4 / B2H6
• Profundidad de difusión cerámica: 10–20 μm
• Control de gas: control de presión de cámara o control de flujo
• Sistema de vacío: bomba de paletas + bomba Roots
• Velocidad de bombeo: 1.200 m³/h
• Materiales tratables: acero, aleaciones de titanio, aleaciones de aluminio, carburo cementado
• Capacidades: tratamiento de superficies internas y externas, piezas de pared fina, formas de electrodos ajustables