El sistema óptico de medición de espesor NanoGauge C12562 es un sistema de medición de espesor de películas sin contacto, compacto y que ocupa poco espacio, diseñado para instalarse fácilmente en los equipos donde sea necesario. En la industria de semiconductores, la medición del grosor del silicio es esencial debido a la difusión de la tecnología de vías de silicio pasantes; y en la industria de producción de películas, las películas de capas de adherencia se hacen cada vez más finas para cumplir las especificaciones de los productos. Así pues, estas industrias requieren ahora una precisión aún mayor en las mediciones de grosor que van de 1 μm a 300 μm. El C12562 permite realizar mediciones precisas en un amplio rango de espesores de 500 nm a 300 μm que incluyen el espesor del revestimiento de la película fina y del sustrato de la película, así como el espesor total. El C12562 también ofrece mediciones rápidas de hasta 100 Hz, lo que lo hace ideal para mediciones en líneas de producción de alta velocidad.
Características
Mide desde el espesor de la película fina hasta el espesor total
Acorta el tiempo de ciclo (máx. 100 Hz)
Disparadores externos mejorados (admiten mediciones de alta velocidad)
Medición simplificada añadida al software
Capaz de realizar tanto análisis de superficies
Medición precisa de la película fluctuante
Análisis de constantes ópticas (n, k)
Control externo disponible
Principio de medición: interferometría espectral
Se producen múltiples reflexiones dentro de la película fina cuando la luz entra en una muestra de película fina. Estas ondas luminosas de reflexión múltiple se potencian o debilitan mutuamente junto con su diferencia de fase. La diferencia de fase de cada luz de reflexión múltiple viene determinada por la longitud de onda de la luz y la longitud del camino óptico. Por lo tanto, el espectro reflejado o transmitido de la muestra muestra un espectro específico determinado por el grosor de la película.
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