Aparato de vigilancia de medición C10346-01
de procesode emisionesde plasma

aparato de vigilancia de medición
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Características

Aplicaciones
de medición, de proceso, de emisiones, de plasma
Interfaz
USB 2.0
Otras características
digital, en tiempo real

Descripción

El monitor multibanda de procesos de plasma C10346-01 es un sistema diseñado específicamente para monitorizar las emisiones ópticas de plasma que se crean durante los distintos procesos de fabricación de semiconductores, incluyendo el grabado, el sputtering, la limpieza y el CVD. El MPM puede manejar el registro multicanal en tiempo real. Especificaciones Número de tipo : C10346-01 Rango de longitud de onda : 200 nm a 950 nm Precisión de la longitud de onda: ±0,75 nm Resolución de la longitud de onda (FWHM) : <2 nm Fuente de alimentación : AC100 V a AC240 V (50 Hz/60 Hz) Consumo de energía : Aproximadamente 70 VA Terminal de salida digital (salida de señal determinada) : TTL máximo 5 canales (3 canales máximo cuando se utiliza la señal de disparo de medición Terminal de entrada digital (señal de disparo de medición inicial) : TTL 1 canal Usando TTL 5 canales Terminal de salida digital (señal de ocupación) : TTL 1 canal Utilizando TTL 4 canales Terminal de salida analógica : 2 canales 0 V a 10 V Conector de sonda de fibra : SMA Interfaz de comunicación : USB 2.0 Tipo B Temperatura ambiente de funcionamiento : +10 ˚C a +30 ˚C

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Ferias

Este distribuidor estará presente en las siguientes ferias

ACHEMA 2024
ACHEMA 2024

10-14 jun. 2024 Frankfurt am Main (Alemania) Hall 11.1 - Stand F62

  • Más información
    * Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.