Máquina de deposición CVD HCTE-VCM-003

máquina de deposición CVD
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Características

Método
CVD

Descripción

Introducción del producto: La función del sistema de deposición química de vapor es depositar películas delgadas sobre el sustrato, mejorar las propiedades del material, fabricar dispositivos funcionales, lograr la modificación de la superficie, controlar con precisión el espesor de las películas delgadas, mejorar la calidad del producto, ayudar en la investigación y desarrollo de nuevos materiales, y ser utilizado en la fabricación de circuitos integrados, etc., con las ventajas de alta controlabilidad del proceso, capaz de producción a gran escala, y posiblemente menor costo.

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.