Servicio de deposición al vacío PVD CERTESS® EJECT

PACVD

Los depósitos físicos y químicos en fase de vapor (PVD et PACVD) son tecnologías de depósitos al vacío, respetuosas del medio ambiente, y que implican un depósito de material en la superficie de las piezas a tratar. Permiten obtener recubrimientos con: • espesores que pueden variar de algunos nanómetros a algunas decenas de micras • durezas de 1000 hasta 4000Hv Así confieren a las piezas tratadas y según el recubrimiento elegido, las propiedades: • Tribológicas : muy bajo coeficiente de rozamiento • Mecanicas : dureza muy importante • De blindaje electromagnético • Ópticas • De conductividad eléctrica • Antibacteriana • Decorativas • … Ese proceso se realiza en una cámara al vacío, en que se crea el plasma. HEF utiliza principalmente 3 métodos para generar sus plasmas y realizar capas de alta calidad: • PEMS®: La tecnología PEMS® permite la realización de capas muy densas para uso tribológico. HEF utiliza ese proceso para la realización de sus capas duras o extra duras de bajo coeficiente de rozamiento. La tecnología PEMS® permite además modificar la dureza, la densidad y la resistencia de los depósitos en función de la aplicación. • CAM®: A la vanguardia de la tecnología al vacío, la tecnología CAM® constituye una verdadera evolución consiguiendo depósito de recubrimientos duros y de muy bajo coeficiente de fricción a temperaturas extremamente bajas. • M-ARC®: Este método es una revolución de la técnica de evaporación por arco. Reduce de manera considerable las micro-gotas generalmente asociadas a este tipo de recubrimiento.