Este sistema de reparación de defectos de fotomáscaras FPD utiliza tecnología de haz de iones focalizado (FIB) y admite fotomáscaras a gran escala.
Un mecanismo de rotación dentro de la cámara minimiza el área de instalación.
Admite máscaras de dispersión de panel plano de gran tamaño
Admite fotomáscaras de gran tamaño, hasta un tamaño máximo de 1400×1600 mm.
Puede depositar película de alta adherencia Puede formar película
con una fuerza de adhesión comparable a la película Cr de la máscara utilizando un gas especial.
Puede reparar máscaras de tonos grises
La función de deposición de carbono FIB permite reparar defectos claros en máscaras de tono gris que utilizan películas de medio tono.
Tamaños de máscara - Máx: 1400×1600 mm
Mín: 6 pulgadas
Grosor máximo: 15 mm
Grosor mínimo: 5 mm
Precisión de reparación - 50 nm@3σ
Método de reparación de defectos claros - Deposición de carbono FIB
Método de reparación de defectos opacos - Grabado asistido por gas
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