Sistema de grabado plasma ECR M-600/6000 series

para silicio

El sistema de grabado de conductores de la serie M-600/6000 está destinado al grabado profundo de zanjas de silicio en dispositivos de potencia utilizados en sistemas móviles, electrodomésticos, automóviles, trenes, etc. La tecnología de grabado a baja temperatura y la tecnología de polarización TM (Time Modulation) junto con la fuente de plasma de alta densidad ECR (Electron Cyclotron Resonance) proporcionan un proceso limpio, perfiles de zanja superiores sin residuos en las paredes laterales y una excelente productividad. Diámetro de oblea aplicable: 150 mm, 200 mm Configuración del sistema: 2 grabados+ 2 cenizas (máx.)