Platina de posicionamiento XY XY-OF-300x300J

rotativamotorizadaeléctrica

Descripción
Mesa XY rotativa de chasis abierto, de perfil bajo, diseñada para manipulación de obleas y posicionamiento automatizado de precisión en la fabricación de semiconductores. Mecanismo de accionamiento XY montado lateralmente y gran orificio central en la mesa rotativa para acceso despejado a la oblea desde ambos lados. Sistema configurable con diferentes aperturas y recorridos.

Especificaciones clave

• Modelo etapa XY: XY-OF-300x300J
• Modelo etapa rotativa: ACR-335UT
• Apertura: 335 mm
• Recorrido (X × Y): 300 × 300 mm
• Rotación: ilimitada
• Resolución lineal: estándar 5 µm; opcional 1 µm (con codificador lineal)
• Resolución rotativa: 1 arc-sec
• Capacidad de carga: 20 kg
• Centro abierto (through hole): 20 mm
• Velocidad: hasta 40 m/s (stepper), hasta 80 m/s (servo)
• Velocidad angular: 100 rpm
• Accionamiento (XY): husillo de bolas
• Accionamiento (rotativo): accionamiento directo
• Opciones de motor: stepper, servo, con codificador

Prestaciones y opciones

• Posicionamiento de alta precisión con codificador lineal opcional de 1 µm
• Rotación ilimitada con resolución de 1 arc-sec para alineación angular fina
• Configuraciones de motor y accionamiento seleccionables según requisitos de velocidad o par
• Apertura y recorrido personalizables para diferentes tamaños de oblea y herramientas de proceso

Aplicaciones

• Manipulación de obleas y alineamiento en procesos de litografía
• Ensamblaje de precisión, inspección y metrología
• Equipos automatizados de pick-and-place y prueba

Información de pedido
La configuración estándar incluye los modelos y accionamientos listados. Contacte con el proveedor para aperturas personalizadas, recorridos, opciones de codificador y soporte de integración.