Sistema de inspección de defectos de superficie Teron™ 600

para la producción

La línea de productos de inspección de retículas Teron™ 640e avanza en el desarrollo y la cualificación de retículas con patrones EUV y de 193 nm de vanguardia en talleres de máscaras mediante la detección de defectos críticos de patrones y partículas. Utilizando los modos troquel a base de datos o troquel a troquel, estos sistemas de inspección están diseñados para manejar la amplia gama de materiales de apilado, estructuras OPC curvilíneas y complejas características de los últimos nodos de dispositivos de 2nm y superiores. El Teron™ 647eS2 incorpora varias mejoras ópticas y de procesamiento de imágenes que admiten las especificaciones de captura de defectos y el rendimiento necesarios para acelerar los tiempos de ciclo de fabricación de retículas. Además, Teron 647eS2 utiliza el algoritmo de IA de aprendizaje profundo de segunda generación, X30, validado en la producción de clientes de 2nm. La línea de productos Teron 640e cumple los estrictos requisitos de limpieza necesarios para la producción de máscaras EUV. Las actualizaciones de campo a Teron 647eS2 están disponibles para los modelos Teron 647e y Teron™ 647eS. Aplicaciones Cualificación de retículas, Control de procesos de retículas, Supervisión de equipos de procesos de retículas, Comprobación de calidad de retículas salientes Productos relacionados Teron 640: Norma de producción industrial para la inspección de retículas ópticas y EUV en el nodo de 10 nm y posteriores. Teron 630: Norma de producción industrial para la inspección de retículas ópticas y EUV de 1Xnm / 2XHP. Teron 610: Norma de producción industrial para la inspección de retículas ópticas de 2Xnm / 3XHP. TeraScan™ 500XR: Estándar de producción industrial para la inspección de retículas ópticas de 3Xnm / 4XHP.