Difractómetro XRD Wafer XRD 300
de laboratorio

Difractómetro XRD - Wafer XRD 300 - Malvern Panalytical - de laboratorio
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Características

Tipo
XRD
Aplicaciones
de laboratorio

Descripción

La potencia de su automatización de fábrica se encuentra con nuestra tecnología de difracción de rayos X de última generación. El Wafer XRD 300 es un módulo de metrología ultrarrápido y de alta precisión para la orientación del cristal y el control de la geometría de obleas. Información general Conozca el Wafer XRD 300: su módulo de difracción de rayos X de alta velocidad para la producción de obleas de 300 mm. Proporciona datos clave sobre diversos parámetros esenciales como la orientación del cristal, y características geométricas como muescas y partes planas y mucho más. Está diseñado para encajar a la perfección en su línea de proceso. Características y beneficios Precisión ultrarrápida con nuestra tecnología de escaneo patentada El método utilizado requiere un único escaneo rotativo para recopilar todos los datos necesarios a fin de determinar completamente la orientación del cristal, lo que ofrece una alta precisión en un tiempo de medición muy bajo: en unos pocos segundos. Manejo y clasificación totalmente automatizados El Wafer XRD 300 está diseñado para maximizar su rendimiento y productividad. La integración completa en su automatización de manejo y clasificación lo convierte en una adición potente y eficiente a su proceso. Fácil conectividad La potente automatización del Wafer XRD 300 se adapta fácilmente a su proceso nuevo o existente, ya que es compatible con las interfaces MES y SECS/GEM. Alta precisión, mayor perspectiva Comprenda sus materiales como nunca antes con las mediciones clave del Wafer XRD 300, incluidos los siguientes aspectos: Orientación del cristal Posición, profundidad y ángulo de apertura de las muescas Diámetro

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