Objetivo de microscopio telecéntrico 2K series

de escaneo del áreapara la visión industrialpara uso industrial

La selección de la lente es muy importante para el sistema de imagen y repercutirá en el resultado de la detección. Para seleccionar el objetivo adecuado, deben conocerse los parámetros fundamentales del sistema de formación de imágenes. Como mínimo, la distancia de trabajo (WD), el campo de visión (FOV), la distancia focal, la abertura y la interfaz de conexión son restricciones necesarias antes de poder seleccionar correctamente un objetivo. Los ingenieros de Techtronic pueden ayudar a seleccionar varios objetivos adecuados para la aplicación. Las series de lentes industriales de OdinVision incluyen Lente telecéntrica bilateral DTM, lente industrial de ultra alto rendimiento DT, lente de alto rendimiento 2K, lente telecéntrica megapíxel 2H, lente telecéntrica industrial estándar 2L y lente HD FA, para satisfacer las necesidades de los clientes de diferentes campos de visión y diferentes precisiones. En respuesta a la demanda del mercado de alta precisión en un gran campo de visión, los objetivos telecéntricos de OdinVision se han actualizado y mejorado continuamente, haciendo que la medición de la precisión alcance el nivel de micras. Características - Objetivo telecéntrico de alta resolución para el espacio objeto que admite cámaras de escaneo de área de 5M-20M píxeles. - Hay disponible una variedad de diseños de bajo aumento para escenarios de aplicación con un campo de visión mayor. - Alta definición, baja distorsión, alta telecentricidad, especialmente adecuado para aplicaciones AOI y de posicionamiento de alta precisión. - Larga distancia de trabajo para facilitar la iluminación y la colocación de los componentes de la máquina. - La especificación óptica coaxial incorporada es especialmente adecuada para obleas, dispositivos de vidrio, dispositivos de visualización. - Se puede personalizar rápidamente para adaptarse a las diferentes especificaciones de la cámara, así como a los requisitos de aumento, distancia de trabajo y profundidad de campo.