Máquina de deposición PVD SP seriespor pulverización catódica con magnetrónde evaporación por arcode película fina
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Características
- Método
- PVD
- Tecnología
- por pulverización catódica con magnetrón, de evaporación por arco
- Tipo de deposición
- de película fina, de película metalizada
- Otras características
- de vacío, con cátodos rotatorios, de ciclo corto, en línea, de alta precisión
- Aplicaciones
- para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones automóviles, para aplicaciones fotovoltaicas, para espejo, para pantallas, para película conductora
Descripción
El equipo de recubrimiento conjunto se basa en la fuerza de la fuente para garantizar una alta calidad, alta eficiencia y alta estabilidad, y lanzar una solución de producción en masa de recubrimiento al vacío más perfecta. El recubrimiento continuo puede evitar que la cámara de recubrimiento esté expuesta a la atmósfera, lo que garantiza la estabilidad del proceso de recubrimiento y también ahorra tiempo de bombeo y duplica la eficiencia de la producción. Los equipos combinados gracias a la configuración simplificada y optimizada de la unidad de vacío, el consumo de energía de los equipos combinados para el revestimiento del mismo número de productos es aproximadamente el 60% del consumo de energía de los equipos individuales, lo que permite ahorrar energía de forma eficaz, reducir los costes para las empresas y acortar en gran medida el periodo de recuperación de la inversión en equipos.
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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.