Horno de difusión DOA-420
de tipo armariode alta temperaturaautomático

horno de difusión
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Características

Función
de difusión
Configuración
de tipo armario
Otras características
de alta temperatura, automático, horizontal
Temperatura máxima

Mín.: 400 °C
(752 °F)

Máx.: 1.100 °C
(2.012 °F)

Descripción

El equipo se utiliza principalmente para dopar y formar uniones Pn en obleas de silicio en el proceso de fabricación de células solares de silicio cristalino. Preparar el bote de cuarzo y las obleas→ Insertar las obleas→ Cargar las obleas→ Elegir la receta → Cargar el bote→ Aspirar el tubo→ Aumentar la temperatura→ Entrada de oxígeno→ Entrada de BBr3/BCL3→ Empujar→ Tratamiento de DOA→ Descarga del bote→ Enfriamiento→ Pruebas→ Descarga de la oblea - Difusión de boro a alta temperatura. - BBr3、BCL3. - Tecnología patentada. - Estructura única de la puerta del horno de doble capa anidada. - Tecnología patentada para el sistema de tratamiento de los gases de escape. - Mecanismo de empuje del bote del módulo integral de alta velocidad. - Control automático inteligente. - Software MES con derecho de propiedad intelectual independiente. - Amplias funciones de protección de alarmas de seguridad, como prevención de sobretemperatura, rotura de termopar y colisión de barcos. - Compatible con la solución de fábrica inteligente S.C.

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Ferias

Este distribuidor estará presente en las siguientes ferias

Intersolar 2024
Intersolar 2024

18-21 jun. 2024 Munich (Alemania) Hall Vide - Stand A2.137

  • Más información
    * Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.