Máquina de deposición PE-CVD

de película fina

·Encendido rápido por radiofrecuencia con una potencia de reflexión mínima para una deposición de película uniforme y estable; ·Tecnología de alimentación múltiple por RF madura y estable, compatible incluso con cámaras de proceso de grandes dimensiones; ·Suministro de gas ajustable de forma continua entre el difusor y el sustrato, lo que ofrece posibilidades de proceso flexibles; ·Alto rendimiento con un coste relativamente bajo, con capacidad para el diseño personalizado de productos; ·Diseño modular que facilita la instalación y el mantenimiento, junto con el protocolo de seguridad más riguroso, desde el diseño hasta la fabricación.