Horno de epitaxia en fase líquida (LPE) ESY–10 TTT

tubularverticalde grafito

Equipo LPE para uso flexible Las características clave del concepto ESY-10 de SOF Optoelectronics son una gran capacidad combinada con la flexibilidad para varios tipos de tecnologías de producción de LPE. Una capacidad de 50 obleas para un proceso de cinco fusiones y 200 obleas para un proceso de una fusión demuestran el gran potencial de este tipo de equipo. Además del equipo estándar ESY-10 para uso industrial, se pueden realizar soluciones diseñadas por el cliente con muchas opciones. El ESY-10 puede adaptarse especialmente a los requisitos de los institutos de investigación y las universidades. El ESY-10 puede diseñarse como un sistema único o doble para reducir el tamaño de la sala limpia. Tecnologías de producción disponibles Infrarrojo estándar Infrarrojo de potencia IR de potencia (UF baja) Infrarrojo de potencia para ventana Infrarrojo de potencia para IrDA 870 nm Infrarrojo de potencia para IrDA 850 nm GaAs de bajo dopaje Aspectos técnicos destacados Sistema simple o doble Tubo de cuarzo LPE vertical 3 zonas de calentamiento Zona plana de temperatura constante: 250 mm Temperaturas de hasta 1.050°C Precisión de la regulación de la temperatura: ± 0,5 °C Min. Necesidad de espacio: 1,2 x 1,2 m² Alta homogeneidad del espesor de la capa por crecimiento horizontal de la capa Procesamiento controlado por ordenador Controlado por ordenador Registro de datos de todos los parámetros del proceso Adecuado para procesos epitaxiales multicapa Adecuado para diámetros de oblea de hasta 4″ Adaptación flexible de la capacidad de las obleas Mínimo de 3 obleas para el desarrollo Máximo de 200 obleas para la producción En principio, el sistema de grafito ESY-10 consiste en alternar placas de grafito fijas y móviles con huecos que sujetan los sustratos. La capacidad del sistema viene determinada por la altura de apilado de las placas de grafito.