Máquinas de grabado en obleas Hitachi

... plataforma y de la interfaz de usuario facilitará una transición fluida a los tamaños de oblea de 450 mm. La plataforma 9000 incorpora la nueva cámara de grabado por plasma de microondas ECR (resonancia ...

... El sistema de grabado de conductores de la serie M-8000 se utiliza para la máscara dura y el grabado de silicio para 32 nm y más allá. Hitachi High-Tech ha desarrollado nuevos flujos ...

... - Posibilidad de control de velocidad de grabado alta y baja - Soporte para obleas giratorio e inclinable. - Se pueden seleccionar muchos tipos de mandriles. - Tamaño compacto - Sistema de detección de ...

... aplicación del cliente de forma gratuita por primera vez. Por favor, pregunte a nuestra empresa sobre el tamaño de la oblea, el número de obleas a procesar, etc. Tamaño de la fuente de iones - Φ200 Voltaje ...

... Es posible tanto una alta uniformidad como un alto rendimiento. - Control de las tasas de grabado es posible alta y baja. - Etapa de autorrevolución de la oblea (sustrato). - Correspondiente a sustratos ...