Sistema láser de femtosegundo FemtoLux 3

de fibrade infrarrojossintonizable

El FemtoLux 3 es un láser de fibra femtosegundo moderno diseñado tanto para la investigación y el desarrollo como para la integración industrial. Ofrece una potencia de salida de 3 W y permite la optimización de los parámetros del láser para aplicaciones como el marcado y la estructuración de volumen de materiales transparentes, la fotopolimerización, la imagen biológica, la microscopía no lineal, y más.

Características

• A 1030 nm: potencia de salida típica de 3 W, hasta 3 μJ/pulso y 10 μJ/ráfaga
• A 515 nm: potencia de salida típica de 1,2 W, hasta 1,2 μJ/pulso y 5 μJ/ráfaga
• < 300 fs … 5 ps duración de pulso ajustable
• M² < 1,2
• Capacidades versátiles de control y sincronización del láser
• Hasta 10 MHz de frecuencia de repetición de pulso
• Disparo inteligente para operación sincrónica con escáner poligonal y PSO
• Control instantáneo de amplitud
• Refrigeración por aire pasiva de la cabeza del láser
• Operación 24/7

Aplicaciones

• Marcado de volumen interno de materiales transparentes
• Marcado y estructuración
• Micromecanizado de materiales frágiles
• Fotopolimerización
• Cirugía oftalmológica
• Imagen biológica
• Bombeo de OPO/OPA femtosegundo
• Microscopía

El FemtoLux 3 ofrece una duración de pulso ajustable de 300 fs a 5 ps, una frecuencia de repetición de pulso ajustable hasta 10 MHz, y una energía de pulso ajustable hasta 3 μJ, permitiendo la optimización para una amplia gama de aplicaciones. El láser puede equiparse con un módulo de segunda armónica para expandir aún más su alcance de aplicación. Con el modo de ráfaga habilitado, puede generar ráfagas de pulsos con energía superior a 10 μJ, mejorando significativamente la eficiencia del proceso. Su cabeza de láser rígida, compacta y refrigerada por aire pasiva permite la integración con varios equipos para el microprocesamiento de materiales, la microscopía u otros fines de investigación.

Especificaciones

• Longitud de onda central: 1030 nm (fundamental), 515 nm (con opción de segunda armónica)
• Duración mínima del pulso (FWHM) a 1030 nm: < 300 fs (típico ~230 fs)
• Rango de ajuste de duración del pulso: 300 fs – 5 ps
• Potencia de salida media máxima: > 3 W a 1030 nm, > 1,2 W a 515 nm
• Estabilidad a largo plazo de la potencia (Desv. estándar): ≤ 0,5 %
• Energía máxima del pulso: > 3 µJ a 1030 nm, > 1,2 µJ a 515 nm
• Estabilidad de la energía del pulso (Desv. estándar): < 2 %
• Frecuencia de repetición de pulso (PRR): 1 – 10 MHz
• Frecuencia de repetición de pulso (PRF) después del divisor de frecuencia: PRF = PRR / N, N=1, 2, 3, … , 65000; disparo único
• Puerta de pulso externa: vía entrada TTL
• Modo de ráfaga: 1 – 10 pulsos
• Energía máxima de ráfaga: > 10 µJ a 1030 nm, > 5 µJ a 515 nm
• Control de forma de ráfaga: vía entrada analógica
• Atenuación de potencia: 0 – 100 % desde la aplicación de control remoto o vía entrada analógica
• Orientación de polarización: lineal, vertical
• Relación de extinción de polarización: > 1000:1
• M²: < 1,2
• Divergencia del haz (ángulo completo): < 1,0 mrad
• Elipticidad del haz (campo lejano): > 0,85
• Estabilidad de puntería del haz (pk-to-pk): < 30 µrad
• Diámetro del haz (1/e²) a 20 cm de la apertura del láser: 2,0 ± 0,3 mm a 1030 nm, 1,0 ± 0,2 mm a 515 nm
• Refrigeración de la cabeza del láser: aire, pasiva
• Tamaño de la cabeza del láser (L×W×H): 459,5 × 362 × 111 mm a 1030 nm, 615,3 × 362 × 139 mm a 515 nm
• Tamaño de la unidad de alimentación (L×W×H): 496 × 483 × 184 mm (autónoma), 548 × 483 × 184 mm (montable en rack de 19″)
• Longitud del umbilical: 5 m
• Requisitos de alimentación: 100 – 240 V AC, monofásico 47 – 63 Hz
• Consumo máximo de energía: < 500 W
• Temperatura ambiente de operación: 15 – 30 °C
• Humedad relativa: 10 – 80 % (sin condensación)
• Nivel de contaminación del aire: ISO 9 (aire de sala) o mejor
• Clasificación según EN60825-1: producto láser de CLASE 4