Unidad de purificación de agua ultra-pura de proceso VANOX® POU-F

industrialcompacta

Resumen
Un sistema de filtración Point-of-Use (POU) compacto y ultralimpio diseñado para eliminar partículas del Agua Ultrapura (UPW) que suministra herramientas críticas de limpieza y procesos húmedos en la fabricación de semiconductores.

Descripción detallada
Los requisitos de la fabricación de semiconductores han superado las capacidades de la metrología de partículas y de la filtración final convencionales empleadas en sistemas UPW. Los filtros finales convencionales tienen tamaños de poro cercanos o superiores a los tamaños críticos que generan los denominados defectos "killer". A medida que las geometrías de los dispositivos se acercan a 10 nm y menos, es esencial controlar las partículas en el punto de uso.

Componentes y condiciones de funcionamiento no estacionarias a lo largo del circuito de distribución UPW —tuberías, válvulas y eventos transitorios— pueden generar o liberar partículas que contaminan las herramientas. El sistema VANOX® POU‑F mitiga este riesgo aplicando materiales validados y tecnología de eliminación de partículas en el punto de uso para minimizar la transferencia de partículas a las herramientas críticas.

Aprovechando más de una década de despliegues Vanox en litografía por inmersión, el POU‑F adapta esa tecnología de control de partículas para su uso general en la planta. El sistema se integra con la Microelectronics Technology Suite de Evoqua para monitorización en tiempo real y operación basada en datos.

Características principales

• Cumple Semi C79-0113
• Tasa de recuperación: 95 %
• Validado hasta el nivel de 10 nm
• Construcción de la bomba no metálica
• Fabricado con materiales ultra‑limpios validados
• Presión de entrega controlada y ajustable manualmente para empatar con la presión de suministro UPW
• Integración de datos en tiempo real con la Microelectronics Technology Suite de Evoqua

Beneficios

• Mejora la eliminación de partículas en la entrada de herramientas críticas
• Reduce partículas que pueden afectar rendimiento y rendimiento de producción
• Extiende el tiempo de funcionamiento entre mantenimientos preventivos de equipos wet/clean
• Diseñado y validado para entornos de producción de semiconductores ultralimpios

Especificaciones técnicas

• Conformidad: Semi C79-0113
• Tasa de recuperación: 95 %
• Validación de eliminación de partículas: hasta 10 nm
• Bomba: construcción no metálica
• Materiales: materiales ultra‑limpios validados
• Presión de entrega: controlada y ajustable manualmente para empatar con la presión UPW
• Integración de datos: compatible con Evoqua Microelectronics Technology Suite para datos en tiempo real