Solvente de limpieza

para los residuos de grabado

Resumen
Limpiadores acuosos post-etch formulados para eliminar residuos de grabado en aluminio, cobre y aleaciones metálicas avanzadas, capas antirreflectantes, SiO2 y dieléctricos ultra low-k. Diseñados para su integración en procesos BEOL (back end of line) de semiconductores y compatibles con herramientas tipo spray y batch. La fabricación y la verificación de pureza se realizan en instalaciones en EE. UU. y Asia.

Aplicaciones

• Eliminación de residuos post-etch
• Limpieza de metalizaciones de Al y Cu y aleaciones metálicas avanzadas
• Limpieza de capas antirreflectantes (ARC), SiO2 y materiales dieléctricos ultra low-k
• Integración en flujos de proceso BEOL (compatibilidad con herramientas spray y batch)

Información clave

• Tipo de química: acuosa
• Aplicación principal: limpieza post-etch y secado
• Compatibilidad de proceso: BEOL (back end of line)
• Materiales compatibles: Al (aluminio), Cu (cobre), aleaciones metálicas avanzadas, capas antirreflectantes, SiO2, dieléctricos ultra low-k
• Compatibilidad con herramientas: spray y batch
• Aclarado: compatible con aclarado directo con agua ultrapura (reduce el uso de disolventes)
• Variantes de producto: grados disponibles según el tipo de grabado; opciones con o sin tensioactivo
• Embalaje: botellas de 4L ×4, tambores de 200L (de un solo uso o retornables), contenedores de 1000L (de un solo uso o retornables), suministro a granel (según disponibilidad)
• Fabricante: FUJIFILM — fabricado y verificado en EE. UU. y Asia

Especificaciones técnicas

• Química: formulación a base de agua (composición específica varía según el grado)
• Usos típicos: eliminación de residuos post-etch, pre-limpieza antes de metalización o deposición dieléctrica, apoyo al secado
• Compatibilidad de materiales: Al, Cu, aleaciones avanzadas, ARC, SiO2, ultra low-k
• Integración de proceso: apto para conjuntos de herramientas BEOL en spray y batch
• Opciones de suministro y embalaje como se indica arriba
• Control de calidad: verificación rutinaria de pureza mediante métodos analíticos avanzados