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Resina de protección Durimide® 20 series

Resina de protección - Durimide® 20 series  - Fujifilm NDT Systems
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Características

Aplicaciones
de protección

Descripción

Fujifilm dispone de varias formulaciones de poliimida no fotosensible para una amplia variedad de aplicaciones de semiconductores y afines. Características y ventajas - Espesores finales de recubrimiento de 400 Angstroms a 25 micras - Opciones de curado a baja temperatura - Contracción muy baja - Se puede estampar con láser directo o métodos de grabado - Sin NMP Gama de productos Durimide™ 32A Poliimida totalmente imidizada utilizada principalmente como recubrimiento de uniones, pasivación y capa de alineación. Baja contracción y temperatura de curado, retrabajable y soluble en disolventes Durimide™ 116A Fotorresistente positivo, revelable con disolvente, películas curadas de 4-10 µm LTG 12-52 Pegamento de baja temperatura diseñado para aplicaciones de fijación de troqueles y componentes. Espesores finales de 5 a 25 micras

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