Máquina de deposición PVD HD500

Descripción del producto
El HD500 se basa en una plataforma de tecnología de recubrimiento compuesto que integra sputtering magnetrón de alta ionización (HiPIMS) y deposición por arco multiarco en un mismo marco de proceso. Genera capas versátiles para materiales de difícil recubrimiento como aceros inoxidables y aleaciones de titanio, contribuyendo a ampliar la vida útil de los componentes. El sistema es adecuado para producción a pequeña escala y desarrollo de procesos.

Ventajas clave

• Grabado lateral con fuente iónica de filamento caliente: proporciona grabado lateral uniforme, control de voladizos y mantenimiento simplificado.
• Sputtering magnetrón HiPIMS compuesto: magnetrones DC + HiPIMS consiguen altas tasas de deposición y proporcionan la energía iónica necesaria para elementos refractarios (Nb, B, C, W, V) y una amplia gama de materiales.
• Fuente multiarco optimizada por plasma: tres grupos de seis blancos circulares multiarco con encendido de arco oculto para operación fiable y mantenimiento sencillo; permite deposición multi-elemento y multicapa con superficies de película lisas y alta utilización de blancos.
• Múltiples plataformas de deposición en un solo equipo: DC MS + HiPIMS MS + deposición iónica multiarco permiten procesos de recubrimiento simples, compuestos y mixtos en el mismo lote.

Parámetros del producto
Nombre: HD500
Tecnología de recubrimiento: Tecnología de recubrimiento compuesta (sputtering de alta ionización + compuesto por arco)
Grabado: Fuente iónica lateral (filamento caliente)
Fuentes multiarco (número): 6
Cátodos de magnetrón (número): 1
Tamaño del equipo (mm): 3400 × 1600 × 2600
Volumen cámara (m³): 0.7
Área efectiva de recubrimiento (mm): Φ410 × 400
Temperatura máxima de trabajo (°C): 700
Capacidad de carga (número de árboles): 5
Carga de plaquitas (APMT1135): 6000 pcs
Carga de plaquitas en barra (D4*50L): 1800 pcs
Peso máximo cargado (kg): 300
Diámetro del eje: Φ130
Tiempo de proceso (AlTiN): 6-8 h

Especificaciones técnicas

• Modelo / Serie: HD500 (Serie HD)
• Tecnología de recubrimiento: Sputtering compuesto de alta ionización + arco
• Método de grabado: Fuente iónica lateral (filamento caliente)
• Fuentes multiarco: 6 (3 grupos de 6 blancos circulares)
• Cátodos de magnetrón: 1
• Dimensiones del equipo: 3400 mm × 1600 mm × 2600 mm
• Volumen de la cámara: 0.7 m³
• Área efectiva de recubrimiento: Φ410 × 400 mm
• Temperatura máxima de trabajo: 700 °C
• Capacidad de carga: 5 árboles
• Carga de plaquitas (APMT1135): 6000 pcs
• Capacidad plaquitas en barra (D4*50L): 1800 pcs
• Peso máximo cargado: 300 kg
• Diámetro del eje: Φ130
• Tiempo de proceso típico (AlTiN): 6-8 h