Espectrómetro de masa HPR-30 series

para el análisis de gasmóvil

Sistemas de análisis de gases residuales para el análisis de procesos en vacío La serie HPR-30 son sistemas de análisis de gases residuales configurados para el análisis de gases y vapores en procesos de vacío y para el diagnóstico de vacío con capacidad de muestreo desde alto vacío hasta presión atmosférica. Los sistemas son totalmente configurables para aplicaciones de proceso individuales como CVD, ALD, grabado por plasma, MOCVD, pureza de gases de proceso y monitorización de contaminantes en proceso. Caracterización del plasma Liofilización CVD / MOCVD / ALD Procesamiento al vacío Análisis de gases residuales XPS casi atmosférico, APXPS Recubrimiento óptico de películas finas Los sistemas de la serie HPR-30 están diseñados para el análisis de alta sensibilidad y respuesta rápida de especies de gas y vapor en procesos de vacío. Las aplicaciones incluyen la detección de fugas, la monitorización de la contaminación, el análisis de la tendencia del proceso y el análisis de especies de alta masa y precursores utilizados en aplicaciones ALD y MOCVD, por ejemplo. Las configuraciones de muestreo se ofrecen como: Carro HPR-30 con entrada de muestreo de doble conductancia, que cuenta con una abertura reentrante acoplada para el muestreo directamente dentro de la región del proceso, proporcionando la máxima integridad de los datos y una rápida confirmación del estado del proceso. Carro HPR-30 con múltiples entradas flexibles, de 1 m de longitud y conexión de colector de tres válvulas con conmutación automática para el análisis en un amplio rango de presión de proceso. HPR-30 SGL con una sola línea de muestreo calentada para aplicaciones en las que el espacio de la herramienta para la conexión de muestreo es limitado, y en las que el requisito de análisis de productos de reacción menos volátiles requiere una solución de entrada totalmente calentada. Se ofrece como opción del sistema la adquisición de datos resuelta en el tiempo, adecuada para la supervisión del proceso de deposición pulsada.