Espectrómetro de masa PSM

cuadripolarpara aplicaciones químicasde proceso

Un analizador de masa y energía para el diagnóstico del plasma Las sondas de plasma Hiden miden algunos de los parámetros clave del plasma y proporcionan información detallada relativa a la química de la reacción del plasma. Caracterización del plasma Grabado con plasma y ALE HiPIMS Recubrimientos de carbono tipo diamante (DLC) Recubrimientos por deposición láser pulsada (PLD) Deposición por magnetrón DC de películas de SiBCN Una amplia gama de procesos industriales utilizan plasmas eléctricos, y se están desarrollando rápidamente nuevas aplicaciones. En la industria microelectrónica, las exigencias de mayores rendimientos y geometrías de dispositivos cada vez más reducidas hacen que la reproducibilidad y la comprensión del proceso sean vitales. El conocimiento detallado de la cinética de reacción de los iones de plasma y las especies neutras desempeña un papel clave en el desarrollo de procesos avanzados de ingeniería de superficies como HIPIMS. Colector de bombeo diferencial con brida de montaje a la cámara de proceso Cuadrupolo de triple filtro de alta sensibilidad / estabilidad, opciones de rango de masas hasta 510amu Detector de recuento de iones por impulsos con rango dinámico de 7 décadas Opción de análisis de energía por barrido de polarización 100eV Óptica de extracción/exclusión de iones con ionizador integral sintonizable para MS de potencial de aparición Manómetro de penetración y enclavamientos para proporcionar protección contra sobrepresión Opción de puerta de señal y puerta de señal programable para estudios resueltos en el tiempo en plasma pulsado Análisis de neutrales y radicales como estándar, opción de análisis de iones +ve / -ve Opciones de blindaje mu-metal y radio-metal, opciones de funcionamiento a alta presión Control de MASsoft mediante RS232, RS485 o Ethernet LAN