Sistema de preparación de muestras automático IM4000 II

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IM4000 II es un sistema modular de pulido con iones de argón controlado por ordenador que puede equiparse como pulidor superficial puro, como pulidor de secciones transversales o como sistema híbrido, en función de la funcionalidad deseada. Con una energía del haz seleccionable en pasos de 100eV desde 0,1keV hasta 6,0keV, se puede cubrir una amplia gama de aplicaciones, desde los pulidos más finos hasta las secciones transversales más grandes. En el funcionamiento con secciones transversales, la IM4000 II alcanza una velocidad de eliminación máxima en Si de 500µm/hora (6 keV, protrusión sobre el borde de la máscara 100µm, oscilación de la platina ±30°). Dispone de funciones como la preselección automática de inicio/tiempo, el pulido a intervalos o los procesos de dos etapas. La IM4000 II-CTC ofrece la opción de temperaturas de proceso de hasta -100°C en funcionamiento transversal. Características del producto: - Pistola de iones tipo Penning única, robusta y de fácil mantenimiento, con control independiente de la corriente del haz y de la tensión de aceleración. Permite haces de iones intensivos a todos los voltajes de aceleración (0-6kV) - La profundidad de proceso transversal en Si con 100µm de saliente por encima de la máscara, oscilación de la platina +/-30°, es de 500µm por hora o más - El pulido de la superficie se puede realizar con ángulos de inclinación de 0° a 90°, el ángulo se puede cambiar durante el proceso - Amplia cámara de muestras con una platina multieje totalmente retráctil unida a la puerta de la cámara para alojar los distintos módulos de aplicación