Satisface las demandas del cliente para medir la densidad ultra baja de sílice con la sensibilidad más fina de 0,01 µg/L (0,01 ppb)
El agua ultrapura que se utiliza en los procesos de producción de semiconductores se puede purificar aún más utilizando una resina de intercambio iónico. La captura de la sílice disuelta de esta resina de intercambio iónico lo más rápidamente posible puede controlar la calidad del agua ultrapura, que es importante durante los procesos de producción.
HORIBA Advanced Techno ha desarrollado y empleado una nueva "célula de medición de longitud de trayecto de luz largo" para permitir la medición altamente sensible de sílice de densidad ultra baja y también ha realizado un modelo compacto de escritorio para mejorar la usabilidad.
Con una amplia gama de características estándar como el autodiagnóstico y nuevas mejoras de rendimiento como la respuesta a alta velocidad y la alta sensibilidad, este producto proporciona un mejor soporte para los procesos de agua pura en la producción de semiconductores.
Alta sensibilidad y alta reproducibilidad
Un largo trayecto de luz de aprox. 1 m se asegura mediante la aplicación de tecnologías de fibra óptica. Esto realiza una alta sensibilidad que responde a una densidad ultra baja. Este producto garantiza la precisión reproducible de la escala completa ±2% dentro del rango de 0 a 2 µg/L durante la medición de alta velocidad de 5 minutos.
Modelo de sobremesa Diseño compacto
La estructura flexible de la "célula de medición de longitud de trayecto de luz largo" también realiza un diseño compacto revolucionario. Este modelo de sobremesa está disponible para diversas condiciones de instalación, como espacios reducidos.
Reducción del consumo de reactivo a 1/5
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