Sistema de litografía e-beam JBX-8100FS

láser

El sistema de litografía por haz de electrones de tipo puntual JBX-8100FS consigue un alto rendimiento, ocupa poco espacio y ahorra energía eléctrica. Características Tamaño reducido El área requerida para el sistema estándar es de 4,9 m (ancho) x 3,7 m (fondo) x 2,6 m (alto), mucho menor que la de los sistemas convencionales. Bajo consumo de energía La potencia necesaria para el funcionamiento normal es de aproximadamente 3 kVA, reducida a 1/3 de los sistemas convencionales. Alto rendimiento El sistema dispone de dos modos de exposición, uno de alta resolución y otro de alto rendimiento, que admiten diferentes tipos de patrones, desde el procesamiento ultrafino hasta la producción de tamaño pequeño y mediano. Se ha minimizado el tiempo de inactividad durante la exposición, a la vez que se ha incrementado la velocidad máxima de escaneado entre 1,25 y 2,5 veces hasta 125 MHz (el nivel más alto del mundo) para una escritura de alta velocidad. Versión El JBX-8100FS está disponible en 2 versiones: G1 (modelo básico) y G2 (modelo con todas las opciones). Al modelo G1 se le pueden añadir los accesorios opcionales que sean necesarios. Nuevas funciones Un microscopio óptico opcional está disponible para permitir el examen de patrones en la muestra sin exponer la resistencia a la luz. Se suministra de serie una columna de señalización para la supervisión visual del funcionamiento del sistema. Resolución de posicionamiento láser Las posiciones de la platina se miden y controlan en pasos de 0,6 nm de serie, y en pasos de 0,15 nm con una actualización opcional. Control del sistema El versátil sistema operativo Linux® combinado con una nueva interfaz gráfica de usuario facilita el manejo. El programa de preparación de datos es compatible tanto con Linux® como con Windows®.