Sistema de litografía de haz electrónico JBX-3200MV

JBX-3200MV es un sistema de litografía por haz de electrones de forma variable para la fabricación de máscaras de nodos de 28 nm a 22/20 nm. Su tecnología de vanguardia consigue alta velocidad, alta precisión y alta fiabilidad. Este sistema EB utiliza un haz de electrones de 50 kV de forma variable y una platina de muestras de paso y repetición. Características Aprovechando el mérito del método de escritura por pasos y repetición, este sistema EB combina varias funciones, como la función de modulación de la dosis de escritura y la función de escritura por superposición, lo que permite realizar las correcciones versátiles necesarias para la creación de patrones de máscaras y retículas de próxima generación. Tiendas de máscaras cautivas y tiendas de máscaras comerciales en Japón y en el extranjero (No se revelan los nombres de los clientes)