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Máquina de control óptica Candela® 8520
de superficiede disco duro HDDpara la industria electrónica

Máquina de control óptica - Candela® 8520 - KLA Corporation - de superficie / de disco duro HDD / para la industria electrónica
Máquina de control óptica - Candela® 8520 - KLA Corporation - de superficie / de disco duro HDD / para la industria electrónica
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Características

Tecnología
óptica
Aplicaciones
de superficie, de disco duro HDD
Sector
para la industria electrónica
Otras características
de defectos, automática

Descripción

El sistema integrado de inspección de superficies y fotoluminiscencia (PL) de segunda generación Candela® 8520 está diseñado para la caracterización avanzada de defectos epitaxiales y del sustrato en sustratos de SiC y GaN. Capta las variaciones topográficas, la reflectancia de la superficie, el desplazamiento de fase y la fotoluminiscencia para la detección y clasificación automáticas de una amplia gama de defectos de interés (DOI). Este sistema emplea tecnología óptica patentada para medir simultáneamente la intensidad de la dispersión en dos ángulos de incidencia. El Candela 8520 proporciona inspección de defectos superficiales y de fotoluminiscencia para obleas de GaN, detectando y clasificando dislocaciones, fosas y agujeros de GaN para el control de defectos en reactores de GaN. Las aplicaciones de potencia incluyen la inspección de obleas transparentes basadas en SiC y la clasificación de defectos cristalinos como BPD (dislocaciones del plano basal), micropipos, defectos de apilamiento, defectos de apilamiento de barras, límites de grano y dislocaciones de hilos. La detección de anomalías topográficas incluye la detección de triángulos, defectos de zanahoria, caída y arañazos. Control de calidad de sustratos, comparación de proveedores de sustratos, control de calidad de obleas entrantes (IQC), control de calidad de obleas salientes (IQC), CMP (proceso químico mecánico) / control de procesos de pulido, control de procesos de limpieza de obleas, control de procesos de epitaxia, correlación de sustrato a epitaxia, comparación de proveedores de reactores de epitaxia, supervisión de herramientas de proceso. Detecta defectos superficiales en materiales de banda prohibida ancha, incluidos SiC y GaN (sustrato y epitaxia) de hasta 200 mm de diámetro Admite una amplia gama de grosores de oblea Detecta partículas, arañazos, grietas, manchas, hoyos, protuberancias, mapeo de grabado KOH

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