Horno de oxidación VF-1000

de tipo armarioeléctricode laboratorio

Este pequeño horno vertical de producción para experimentos e investigación (I+D) consigue un procesamiento de alta calidad. Este horno es compacto y sólo requiere una pequeña superficie de instalación, pero puede utilizarse para una amplia gama de diámetros de oblea y presenta las mismas características de temperatura que los hornos de producción en serie. Características Procesamiento de alto rendimiento para I+D Procesamiento de mini lotes, máximo 25 obleas por lotes disponibles obleas de 2 a 8 pulgadas y de 300 mm de tamaño Equipado con un calentador LGO para conseguir el mismo rendimiento de alta temperatura que los equipos de producción en masa Equipado con un sistema de control simple de función limitada Este horno vertical para experimentos, investigación (I+D) y pequeña producción puede utilizarse para una amplia gama de tamaños de oblea de 2 a 8 pulgadas y hasta 300 mm, y el tamaño del mini lote también puede elegirse de hasta 25 obleas. Dado que el calentador puede elegirse entre un calentador LGO y varios otros calentadores, el desarrollo del proceso está disponible con la misma estructura de apertura del horno y el mismo rendimiento del calentador que los hornos de producción en serie. Este horno puede utilizarse para diversos tratamientos de obleas de silicio (LPCVD, oxidación y difusión), oxinitruración de puertas de silicio y recocido de activación para el desarrollo de dispositivos de potencia (Si y SiC), así como para una amplia gama de otros procesos.