Horno de sinterización
tratamiento térmicode cámaraeléctrico

horno de sinterización
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Características

Función
de sinterización, tratamiento térmico
Configuración
de cámara
Fuente de calor
eléctrico
Atmósfera
de gas inerte, de alto vacío, en atmósfera controlada, de vacío
Otras características
para la industria de la cerámica, para la industria electrónica, de laboratorio, para aplicaciones aeronáuticas, para la metalurgia, para metales preciosos
Temperatura máxima

Mín.: 0 °C
(32 °F)

Máx.: 2.300 °C
(4.172 °F)

Descripción

Nuestro horno de sinterización de carga inferior está diseñado para la sinterización a alta temperatura de componentes electrónicos. Los ciclos consisten en la preparación de la atmósfera, el calentamiento, el enfriamiento forzado y la oxidación controlada. Este horno tiene una zona utilizable de 12" de diámetro x 22" de alto (305mm x 559 mm), y es adecuado para el procesamiento por lotes grandes. Este horno tiene dos cámaras, una inferior para carga y descarga, refrigeración y oxidación controlada, y la superior para sinterización a alta temperatura. Las atmósferas de ambas cámaras están aisladas, un elevador eléctrico mueve la pila de carga desde la cámara inferior a la cámara de calentamiento. La zona caliente es capaz de alcanzar temperaturas de hasta 2100°C con zonas calientes de tántalo o tungsteno. Un sistema de bombeo de difusión de alto rendimiento 10″ o 16″ se encarga de la desgasificación de la carga que se observa típicamente durante el calentamiento del producto. Una intuitiva interfaz HMI personalizada ejecuta ciclos completamente automatizados de principio a fin.

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.