ResumenLa serie ASYMTEK Vantage® Series es una plataforma de dosificación de fluidos de precisión diseñada para el embalaje avanzado de semiconductores a nivel wafer, sustrato y panel. Combina jateado de alta velocidad, calibración automatizada y control en lazo cerrado para dispensados repetibles en componentes miniaturizados y líneas de alta producción.
Características y beneficios- Dispensa en huecos die-a-die < 200 μm y evita zonas restringidas < 250 μm
- Alto rendimiento: IntelliJet single hasta 49.000 DPH; dual IntelliJet hasta 90.000 DPH
- Calibración automatizada y corrección en tiempo real con patente para consistencia en dispensado húmedo
- Sensado de altura confocal y láser sin contacto para sustratos reflectantes y transparentes
- Controles en lazo cerrado, inspección post-dispensado y trazabilidad completa
- Conectividad Industry 4.0 mediante API ASYMTEK NE Connect y SDK Canvas®
Vantage (estándar)Plataforma flexible de dosificación de precisión, optimizada para aplicaciones a nivel wafer y sustrato que requieren precisión, flexibilidad de proceso y alto rendimiento.
Características Vantage- Soporta wafers de 200 mm y 300 mm y paneles de 310 × 310 mm
- Rendimiento single IntelliJet hasta 49.000 DPH; dual IntelliJet hasta 90.000 DPH
- Programación gráfica Canvas® para configuración y simulación rápidas
Vantage XLConfigurado para packaging a nivel panel de gran formato donde tamaño del panel, gestión térmica y planitud son críticos para el rendimiento.
Características Vantage XL- Procesa paneles hasta 510 × 515 mm (tamaños adicionales con utillaje a medida)
- Gestión térmica integrada para minimizar deformaciones y optimizar el flujo de underfill
- Jateado de alta velocidad con doble válvula IntelliJet y corrección en tiempo real
Software — Canvas®Canvas® ofrece programación gráfica, asistentes guiados, bloques de datos y programación offline para reducir paradas de producción.
- Escanea y simula dispensado en un lienzo virtual
- Asistentes guiados y programación offline
- Acceso rápido a sensores, controles de proceso y datos históricos
Válvulas y tecnologías soportadas- IntelliJet® jetting, NexJet NJ-8
- DispenseJet serie DJ (DJ-2100, DJ-2200, DJ-9500)
- Válvulas DV (DV-01, DV-05A, DV-07, DV-09) y bombas Heli-Flow (DV-7000, DV-8000C)
Opciones de proceso e integraciones- Calibrated Process Jetting (CPJ)
- Continuous path motion control y Fids-on-the-Fly para reconocimiento de fiduciales
- Paquetes de visión de alta resolución y sensado de altura sin contacto
Aplicaciones- Dispensado a nivel wafer y sustrato
- Packaging a nivel panel y packaging avanzado de gran formato
- Underfill, unión, sellado y dispensado de adhesivos en packaging de semiconductores
Cumplimiento / patentesTecnologías de corrección en tiempo real con patentes y patentes en trámite (ej. patentes US: 9,707,584; 10,150,131; 10,737,286).
Especificaciones técnicas- Nombre de la serie: ASYMTEK Vantage® Series
- Manejo mínimo de huecos die-a-die: < 200 μm
- Evitación de zonas restringidas: < 250 μm
- Rendimiento single IntelliJet: hasta 49.000 DPH
- Rendimiento dual IntelliJet: hasta 90.000 DPH
- Soporte de panel (Vantage): 310 × 310 mm; (Vantage XL): hasta 510 × 515 mm
- Sensado de altura: confocal y láser sin contacto
- Software: Canvas® (programación gráfica, offline, asistentes)
- Controles de proceso: lazo cerrado, inspección post-dispensado, trazabilidad completa