Microscopio AFM NX20

para la investigaciónpara medición de la rugosidad superficialmodular

Park NX20 es una plataforma de AFM para todos los laboratorios de investigación que trabajan con muestras de hasta 200 mm. Desde aplicaciones académicas hasta semiconductores y análisis de fallos, el NX20 ofrece características únicas como mediciones precisas y reproducibles con un sistema de escaneo XY desacoplado, mediciones de rugosidad superficial con un detector Z de bajo ruido, modo True Non-Contact™ que garantiza la nitidez de la punta para la precisión de la rugosidad superficial, una amplia gama de modos de escaneo de alta resolución y un diseño modular. El NX20 se utiliza ampliamente en la industria de los semiconductores y los discos duros por su precisión de datos y sus mediciones reproducibles que mejoran la eficiencia analítica de los estándares de productividad. La versión de 300 mm, el Park NX20 300 mm, admite un rango de desplazamiento motorizado completo de 300 mm x 300 mm y puede inspeccionar una oblea entera de 300 mm de forma eficiente, sin necesidad de un engorroso desplazamiento de la muestra. Principales características técnicas: escáner 2D guiado por flexión con un rango de escaneo de 100 µm x 100 µm * Escáner Z de alta velocidad con un rango de escaneo de 15 µm * Sensor de posición XYZ de bajo ruido * Etapa de muestra XY motorizada con codificadores opcionales * Automatización de paso y escaneo * Soporte de muestra accesible * Ranura de expansión para modos y opciones SPM avanzadas * Óptica de alta potencia directa en el eje con iluminación LED integrada * Enganche automático mediante cabezal SLD deslizable * Etapa Z motorizada y etapa de enfoque alineadas verticalmente * Electrónica digital de alta velocidad de 24 bits