Microscopio de fuerza atómica NX-Maskpara reparación de fotomáscarasnanoscopioautomático
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Características
- Tipo
- de fuerza atómica
- Aplicaciones técnicas
- para reparación de fotomáscaras
- Técnica de observación
- nanoscopio
- Otras características
- automático, de alto vacío
Descripción
Park NX-Mask es el sistema de reparación de fotomáscaras más eficaz, seguro y eficiente para las reparaciones de máscaras EUV de gama alta. Proporciona una solución todo en uno, desde la revisión automática de los defectos hasta la reparación y la verificación, acelerando el rendimiento con una eficacia de reparación sin precedentes.
Características principales
✔Sin riesgo de daños y reparación sin fisuras de cualquier tipo de defectos
✔Compatible con una vaina doble para el manejo de máscaras EUV
✔Solución todo en uno para la localización de defectos y la verificación posterior a la reparación
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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.