Espectrómetro de fluorescencia TXRF 3800e

de fluorescencia de rayos X por reflexión totalde procesocompacto

TXRF 3800e El análisis de TXRF 3800e puede medir la contaminación en todos los procesos de fabricación, incluyendo la limpieza, litografía, grabado, películas, incineración, etc. El TXRF 3760 puede medir los elementos de Na hasta U con un solo objetivo, un sistema detector de estado sólido y un sistema de rayos X de triple haz. El TXRF-310 incluye el sistema patentado de fase de muestra Xyθ de Rigaku, un sistema de transferencias de obleas en vacío, y un nuevo software de Windows fácil de usar. Todo esto contribuye a un mayor rendimiento, exactitud, y precisión, y también es fácil de operar. El software opcional Sweeping TXRF permite la asignación de la distribución contaminante sobre la superficie de la oblea para identificar los "puntos calientes" — a cero borde de exclusión. Todas estas características se encuentran en un nuevo diseño, compacto y eficiente. El acceso de todos los trabajos de mantenimiento son a través de los paneles delanteros y traseros, para que otro equipo de sala limpia pueda ser colocada al lado del TXRF 3800e. Esto representa un gran ahorro de espacio de las salas de limpias. Features Facilidad de operación y rápido análisis de resultados Acepta obleas de 200 mm y más pequeñas Bajo costo de propiedad Diseño compacto, para espacios reducidos Fuente de tubo sellado de rayos X Amplia gama de elementos de análisis (S ~ U) Aplicación a Si descubierto y de sustratos sin Si Capacidad de medición cero borde de exclusión (ZEE-TXRF) Coordina la importación de medidas desde las herramientas de inspección de defectos para el seguimiento de análisis